半導(dǎo)體材料國家工程研究中心成立于1991年11月，隸屬于北京有色研究總院。
歷史沿革
半導(dǎo)體材料國家工程研究中心的歷史可以追溯至1957年，當(dāng)時北京有色研究總院開始對硅材料進行研究。1958年10月，國內(nèi)首個硅材料研究室在北京有色研究總院成立，隨后展開了對硅多晶、單晶及其性能測試的系統(tǒng)性研究。1965年，該院利用自主研發(fā)的技術(shù)建設(shè)了中國第一個硅材料廠——四川峨眉半導(dǎo)體材料廠。此外，還參與了從日本引進全套硅廠的工作，并于1966年建立了洛陽單晶硅廠。
研究領(lǐng)域
半導(dǎo)體材料國家工程研究中心專注于半導(dǎo)體材料單晶生長技術(shù)、半導(dǎo)體材料晶片加工技術(shù)以及半導(dǎo)體材料缺陷的形成機理與消除措施領(lǐng)域的研究。憑借其先進的技術(shù)和設(shè)備，中心在國內(nèi)相關(guān)領(lǐng)域取得了多項開創(chuàng)性成果，并保持領(lǐng)先地位。
設(shè)施與生產(chǎn)能力
中心擁有完善的生產(chǎn)設(shè)施和技術(shù)能力，包括單晶生長、切片、磨片、腐蝕、拋光、清洗及檢測工藝。配備了高精度的晶體生長、切割、研磨、拋光設(shè)備以及超凈環(huán)境下的測試、清洗、包裝設(shè)備。同時，中心具備純水、氣體和化學(xué)試劑等輔助條件和設(shè)施。
生產(chǎn)線
半導(dǎo)體材料國家工程研究中心擁有多條生產(chǎn)線，包括用于超大規(guī)模集成電路的直拉單晶及拋光片生產(chǎn)線，功率器件用區(qū)熔硅單晶及晶片生產(chǎn)線，以及光電子器件用Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體單晶及晶片的生產(chǎn)線。
主要產(chǎn)品
中心的主要產(chǎn)品涵蓋多種規(guī)格的直拉硅單晶及拋光片，區(qū)熔硅單晶及晶片，以及Ⅲ-Ⅴ族化合物半導(dǎo)體（如砷化鎵、磷化鎵、銻化鎵、磷化銦）單晶及晶片。
參考資料 >
北京有色金屬研究總院半導(dǎo)體材料國家工程研究中心介紹.考研幫.2024-10-31
半導(dǎo)體材料國家工程研究中心創(chuàng)新能力建設(shè)項目順利通過驗收.有研(廣東)新材料技術(shù)研究院 .2024-10-31
中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷史大事記 (至1999年).中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所.2024-10-31