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旋轉涂布是一種通過旋轉機的離心力作用，在平面底板上形成厚度從微米到納米范圍薄膜的技術。這種技術常用于微電子學工業中生產光刻和光致抗蝕薄膜。
工藝原理
旋轉涂布的過程包括將待涂布的稀溶液放置于平面底板上，然后使裝有底板的旋轉機逐漸加速旋轉。在旋轉過程中，由于離心力的作用，底板上的稀溶液被均勻地涂布成為薄膜。薄膜的厚度受到多種因素的影響，包括溶液的粘度、溶劑種類、旋轉機的轉速以及旋轉時間等。目前已經有一些研究者提出了關于薄膜厚度的理論模型，這些模型考慮了聚合物溶液的特性、溶劑的選擇以及旋轉速度等因素。
應用領域
旋轉涂布技術在微電子學工業中有廣泛應用，特別是在以溶膠-凝膠為前體的氧化層微細加工中。此外，它還廣泛用于涂布光刻和光致抗蝕薄膜等領域。
參考文獻
(1) Scriven, LE (1988) "Physics and applications of dip coating and spin coating" MRS Proceedings, 121.(2) D.E.Bornside et al. J.Imaging Technology 13.122(1987).
參考資料 >